电子材料用高纯度气体业务            决定建设上海第二工厂

电子材料用高纯度气体业务 决定建设上海第二工厂

2020年1月8日

  昭和电工株式会社(社长:森川 宏平)为了强化电子材料用高纯度气体事业,决定在上海的生产基地-上海昭和电子化学材料有限公司(以下简称“SSE”)的旁边取得第二工厂建设用地*,建设高纯度N2O(一氧化二氮)和高纯度C4F8(八氟环丁烷)的生产设施,以及高压气体危险品仓库。第二工厂拟于2021年下半年投产。

  高纯度N2O主要是半导体及显示屏制造时的氧化膜的氧来源的特种气体,高纯度C4F8主要是这种氧化膜的微细加工(蚀刻)时的特种气体。由于第5代移动通信(5G)等信息通信领域的发展,以及中国政府的产业培育政策,预计今后中国的半导体及显示屏市场(有机EL电视机等)将会扩大。

  目前,本公司在川崎事业所和韩国基地生产高纯度N2O,并在川崎事业所和上海基地(SSE第一工厂)生产高纯度C4F8。为了提高对日益增长市场的稳定供应能力,本公司正致力于进一步推进“地产地销”的政策。同时,在中国逐年加强对化学品的监管的形势下,在上海建设并完善本公司拥有的高压气体危险品仓库,对增强供应链、提高竞争力将大有帮助。通过本公司拥有的生产技术和品质管理技术的有机结合,以及面向客户的最佳供应体系的建立,本公司的事业将进一步得到强化。

SSE第二工厂概要)

照片:上海昭和电子化学材料有限公司(SSE)第一工厂外观

面积: 约10,000平米
计划建设设备: 高纯度N2O 年生产能力1,000吨
高纯度C4F8 年生产能力  600吨
高压气体危险品仓库
计划投产时间: 2021年下半期

  另外,由于预计台湾的半导体市场同样也会扩大,本公司的现地生产子公司“台湾昭和化学品生产股份有限公司”也将新建年产150吨高纯度C4F8的生产设施(计划2020年春投产)。本次在上海和台湾的投资总额约为30亿日元。

  本集团的愿景是将自己打造成一家个性化企业(能将收益性与稳定性保持在高水平的个性化事业联合体),而电子材料用高纯度气体事业正是本集团的个性化事业之一。今后本集团仍将通过充实供货品种、健全供货体系,以应对全球电子材料市场的不断扩大,进一步提高事业竞争力和收益性。

*取得用地:获取50年的土地使用权

◆本事宜的咨询处  公关室 03-5470-3235